在上个月的时候，郭台铭在青岛的某个晶圆厂迎来了一台核心的设备，那就是国内首台封测光刻机（据说是28nm制程），这一消息顿时在国内引起不小的反响，甚至有人在问，国产EUV光刻机何时能来，此前网上盛传的上海微微电子或将在今年交付的28nm国产光刻机能按时提交吗？
就市场而言，现在也唯有几家能够做光刻机生产，而EUV光刻机只有ASML能够生产，中芯国际本来已经掌握了7nm甚至更为先进的技术，但是偏偏就缺少EUV光刻机，所以这也使得国人更加急切的想要获得一台先进光刻机生产芯片，但是就现在来看，上海微电子还只是90nm。尹志尧在接受采访的时候也表示我们与先进水平还差几代呢，这需要五年甚至是十年来追赶，而就在近期，国产光刻机终于传来了消息，难道ASML总裁说对了？
28nm光刻机传来的消息！
早年前外国专家就表示，给你图纸都不一定能够造出光刻机。
这句话也并不夸张。一台先进光刻机供应链就牵扯到5000多家，其中部分零部件甚至就是一个国家的顶尖科技水平，所以可想而知其难度有多大。于是当国内院士吴汉明表示“单独让一个国家、地区做一个光刻机是不现实”时，网友一片骂声，觉得这是“畏难”精神，这是在泼冷水。但现实似乎更加残酷。
当年上海微电子总经理带团队赴国外学习的时候，遭受到了外国专家的轻视，自己负气回国造光刻机，最后在接受采访的时候表示，这简直就是在小米粒上刻清明上河图，前提是这小米粒是在一架飞机上，而雕刻师是在另一架飞机上进行作业。
但是就像20年前时任科技部的徐冠华所说的那样，我们要“填补”在信息产业上的空白！
光刻机，必须安排上。再难都要去做！
前一段时间中科院表示依然攻克部分难题，而就在近期，不少媒体爆料称，国产28nm光科技已经完成了技术检测和认证，或将于今年底就可以交付。尽管只是28nm制程，但是对于国内半导体产业来说，已经是一个巨大的进步，其意义非凡，其价值非凡！
中国芯加速崛起，ASML的担心正在发生？
在设备方面，国内突破的也不单单是光刻机，如抛光设备、湿法设备等等也步入到28或14nm领域，且前段时间南大光电所生产的高端芯片所需的光刻胶也完成了检测。
从设备到半导体材料，国内都在积极发展中。或许就像张召忠所讲的那样，用不了三五年，美芯片将没人使用，而中国芯将遍地都是。这话虽然有点夸大，但似乎也是如此。
而今年年初甚至在去年的时候ASML都曾多次在电话会议上呼吁美，要对芯片限制出口问题进行考虑，因为中国正在加大投资，以此获得突破，届时，半导体市场或将迎来改变。
其实ASML有如此担心，也是商人本质。现在国内正是需要半导体设备的时候，但是美的限制使其营收受到影响，其次，如果国内在光刻设备获得突破，那么它毕竟将会失去竞争力。也难怪ASML的总裁会说，三年攻克光刻机，十五年或将攻克半导体上的其他难题。
不管是不是捧杀，我们的目标依然很明确：坚定不移地走自研道路。自己动手，什么都会有的！
